"Nosso transistor vertical poderá eventualmente superar o convencional que, segundo vários peritos da indústria de semicondutores, deverá esgotar suas possibilidades nos próximos dez anos”, declarou o pesquisador-chefe do Bell Labs, Jack Hergenrother.

As empresas de semicondutores usam luz para imprimir características em chips de silício. Mas, como os transistores continuam a diminuir de tamanho, a maioria dos peritos concorda que a luz acabará, eventualmente, sendo incapaz de produzir as características menores exigidas, especialmente os gates. Além disso, existe uma variação considerável no tamanho do gate, quanto é usada a abordagem da luz, e os chips devem ser projetados para tolerarem esta variação, o que reduz a sua performance geral.

A abordagem do transistor vertical soluciona estes problemas usando a espessura de uma camada de material precisamente controlada, em vez da luz, para definir o tamanho do gate. A tecnologia para criar estas camadas extremamente finas, uniformes e reproduzíveis, está bem desenvolvida na indústria de semicondutores.

“Suponha que você tenha uma lata de tinta e um pincel grande e deva pintar a linha mais fina possível”, diz Hergenrother. “Se você tentar pintar uma linha à mão livre, o resultado será similar à abordagem da luz. Contudo, se você pintar uma superfície plana, cortá-la verticalmente e olhar por cima, vai ver uma linha tão fina quanto a superfície pintada. Um princípio similar é usado em nosso transistor para produzir os menores gates jamais produzidos anteriormente, com o controle exigido pela indústria”.

Até o momento, o Bell Labs da Lucent desenvolveu um transistor vertical com um gate de 50 nanômetros. Mas, seu design deve ser capaz de criar portões com menos de 30 nanômetros.

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