Motorola Labs cria o menor transistor
do mundo
Com tamanho
três a quatro vezes inferior aos atuais, mais rápido e com
menor consumo de energia, o novo transistor desenvolvido pelo Motorola
Labs é apresentado como a primeira modificação fundamental
no uso de materiais para fabricação desse componente nos
últimos trinta anos (embora a concorrente Lucent tenha anunciado
semanas atrás uma modificação revolucionária,
com a verticalização dos componentes). O avanço obtido
pelo Motorola Labs foi possível graças ao uso de perovskite,
um semicondutor da categoria dos óxidos cristalinos, com propriedades
únicas, nunca antes usado para a confecção de transistores.
A construção de transistores
cada vez mais finos sem um aumento significativo do consumo permitirá
a constante redução do tamanho e do consumo de energia dos
chips de computadores. No futuro, este desenvolvimento poderá
tornar os circuitos integrados mais rápidos, poderosos, capazes
de operar com uma única pilha.
"À medida em que os aparelhos
diminuem de tamanho, as conexões óxidas dos transistores
também precisam ser mais finas. No entanto, estamos rapidamente
chegando ao limite da miniaturização do dióxido de
silício, usado nos últimos trinta anos", afirma Jim Prendergast,
vice-presidente e gerente geral do Laboratório de Pesquisas para
Ciências Físicas (PSRL) da Motorola. "A solução
seria utilizar uma nova família de materiais, cuja aparência
elétrica é muito meenor do que sua espessura física
de fato".
Simulação - O processo
de desenvolvimento do novo transistor envolve a utilização
de materiais com constante dielétrica mais elevada do que o dióxido
de silício padrão (materiais com k maior). Através
do desenvolvimento de um material de titanato de estrôncio em substratos
de silício, o Motorola Labs demonstrou propriedades elétricas
dez vezes melhores do que no dióxido de silício equivalente.
A chave para esta descoberta foi
o uso de algumas das melhores técnicas de simulação
por computador disponíveis atualmente, onde cada átomo é
analisado separadamente na interface. O entendimento dos comportamentos
dos átomos na estrutura permitiu ao Motorola Labs resolver problemas
fundamentais que frustraram outras tentativas de utilizar novos materiais
para compor camadas dielétricas.
Esta foi a primeira vez que simulações
de computador tão detalhadas foram aplicadas ao desenho de uma interface
deste tipo. Os ensaios computadorizados foram confirmados por experiências
cuidadosamente controladas e por análises avançadas que contaram
com a cooperação da Universidade do Arizona e do Stanford
Synchrotron Radiation Laboratory. O PSRL da Motorola também tem
uma parceria com engenheiros dos laboratórios DigitalDNA do Setor
de Produtos de Semicondutores da Motorola (SPS)
para auxílio na manufatura da nova tecnologia.
Raros - Embora os materiais
perovskites tenham sido estudados durante muitos anos pela indústria,
o Motorola Labs é pioneiro na produção de um transistor
CMOS eficiente, comprovando este conceito. O dispositivo produzido, que
demonstrou propriedades elétricas superiores aos transistores CMOs
existentes, teve um desempenho muito próximo às previsões
teóricas.
Os perovskites constituem uma classe
de material cristalino, que abriga um átomo de metal dentro de uma
estrutura octogonal de oxigênio. Esta estrutura resulta em propriedades
fora do comum, tais como uma constante dielétrica alta e até
ferro-eletricidade, de acordo com os elementos atômicos específicos
incorporados. Os perovskites, embora sejam muito raros na natureza, são
encontrados na Tanzânia, no Brasil e no Canadá.
No laboratório, estas estruturas
são feitas artificialmente, através da construção
de uma camada atômica por vez, o que resulta num cristal puro e quase
perfeito.
Para conseguir uma combinação
perfeita do material de óxido cristalino com o cristal de silício,
a interface entre os dois materiais deve ser controlada com precisão.
A Motorola utilizou epistase de raios moleculares (MBE) para pesquisas
físicas, possibilitando a união precisa dos dois diferentes
materiais numa única estrutura cristalina. O cristal de titanato
de estrôncio precisa ser girado em 45 graus na superfície
do silício e o número de falhas na interface precisa ser
inferior a um átomo deslocado para cada dez mil átomos.
O Motorola Labs também demonstrou
que consegue cultivar estes materiais em wafers de silício
de até 8 polegadas de diâmetro. Esta é a primeira vez
que a MBE é usada com êxito em wafers tão grandes.
A precisão desta técnica produziu camadas nas quais a espessura
não variou mais do que uma camada de átomos na extensão
inteira de um wafer. |